澤攸電鏡的JS系列臺(tái)階儀是進(jìn)行納米尺度表面輪廓和膜厚測(cè)量的工具。它與掃描電鏡技術(shù)相結(jié)合，可提供多維度的樣品信息。樣品處理與制備：ZEM系列臺(tái)式電鏡

產(chǎn)品細(xì)節(jié)與性能：
JS系列采用壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)和柔性鉸鏈結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)了探針的平穩(wěn)掃描。測(cè)量力可調(diào)，以適應(yīng)不同硬度樣品的測(cè)量需求，避免對(duì)樣品造成損傷。

核心參數(shù)（JS 400例）：

• 掃描范圍：100μm × 100μm × 25μm (XYZ)

• 垂直分辨率：0.1nm

• 掃描速度：0.01 - 1mm/s

• 樣品尺寸：直徑≤ 6英寸

用途：
主要用于半導(dǎo)體制造中的膜厚測(cè)量、MEMS器件表面形貌表征、材料表面的粗糙度分析等。

澤攸電鏡提供多種可與掃描電鏡集成的原位樣品臺(tái)，使研究人員能夠在微觀尺度觀察樣品在熱、力、電等外界條件下的動(dòng)態(tài)變化過程。

獲得清晰電鏡圖像的前提是良好的樣品制備。澤攸電鏡提供多種樣品制備設(shè)備，如離子濺射儀和臨界點(diǎn)干燥儀，覆蓋常見的制樣需求。

產(chǎn)品細(xì)節(jié)與用材：
離子濺射儀采用高純度金屬靶材（如金、鉑、碳），真空室由不銹鋼制成，配備數(shù)字式真空計(jì)和電流穩(wěn)定裝置，以控制鍍膜厚度。

核心參數(shù)（濺射儀Sputter 10例）：

• 真空度：≤ 8 Pa

• 濺射電流：0 - 50 mA

• 靶材選擇：多種可選

• 定時(shí)范圍：0 - 999秒

用途：
為不導(dǎo)電的樣品（如生物組織、高分子材料）鍍上一層導(dǎo)電膜，防止電荷積累，改善圖像質(zhì)量。

使用簡述：
將清潔干燥的樣品放入濺射儀樣品臺(tái)，抽真空至設(shè)定值。設(shè)置濺射電流和時(shí)間，啟動(dòng)程序。完成后取出樣品即可上機(jī)觀察。樣品處理與制備：ZEM系列臺(tái)式電鏡